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刻蚀工艺

刻蚀目的

将硅片边缘的带有的磷去除干净，避免 pn 结短路造成并联电阻降低。

刻蚀原理

采用干法刻蚀。采用高频辉光放电反应， 采用高频辉光放电反应，使反应气体---成活性粒子，如原子或各种游离基，这些活性粒子扩散到硅片边缘，在那里与硅进行反应，形成挥发性生成物四---硅而被去除。

化学公式： cf 4 +sio 2 =sif 4 +co 2

工艺流程

预抽，主抽，送气，辉光，抽空，清洗，预抽，主抽   ，充气。

影响因素

1. 射频功率

射频功率过高：等离子体中离子的能量较高会对硅片边缘造成较大的轰击损伤，导致边缘区域的电性能差从而使电池的性能下降。在结区（耗尽层）造成的损伤会使得结区复合增加。

射频功率太低：会使等离子体不稳定和分布不均匀，从而使某些区域刻蚀过度而某些区域刻蚀不足，导致并联电阻下降。

2. 时间

刻蚀时间过长：刻蚀时间越长对电池片的正反面造成损伤影响越大，时间长到一定程度损伤不可避免会延伸到正面结区，从而导致损伤区域高复合。

刻蚀时间过短：刻蚀不充分，没有把边缘鳞去干净， pn 结依然有可能短路造成并联电阻降低。

4.   压力

压力越大，气体含量越少，参与反应的气体也越多，刻蚀也越充份。

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5.1.5   尺寸

电池尺寸的检验采用分辨力优于0.02mm 的卡尺测量，电池的厚度采用分辨力优于 0.01mm 的千分尺测量。

电池的角度偏差采用分辨力优于0. 1° 的量角器测量。

电池的厚度偏差和总厚度偏差检验参照 gb/t6618 进行

5.1.6   外观

在照度不小于 800lux的白色光源下对电池的表面颜色进行目测。

电池的崩边、钝性缺口等外观缺损的尺寸检测，采用分辨力优于 0.02mm 的量具测量。 5.2 力学性能

5.2.1   弯曲变形

使用表面平整度优于0.01mm 平台，电池背面朝下水平放置，用分辨力优于 0.01mm 的量具进行检验。

5.2.2   电极附着强度或电极 / 焊点抗拉强度

电极的附着强度和电极 / 焊点的抗拉强度试验采用同一方法，。将一根长 150mm ，宽 1.7mm 的焊锡条引线焊接在电池电极上，焊接长度为 10mm ，焊接以不虚焊为准，在与焊接面成 45 °对引线施加拉力，逐渐加大拉力，在拉力不低于 2.49n 的情况下持续 10s 以上。

5.3 电性能

5.3.1   电性能参数的温度系数测量电池的温度系数测量按sj/t 10459  进行。

5.3.2 电性能参数测量

电池的电性能参数测量按gb/t6495.1 和 gb/t6495.3进行。

5.3 热循环试验

将测试电池样品间隔的放置在环境试验箱（相对湿度小于 60% ）中，按图 4 的温度分布，使电池的温度在 -40 ℃± 2 ℃ 和 85 ℃± 2 ℃ 之间循环。在两个---温度的保持时间不少于 10min ，循环次数 5 次。再按本标准的规定对电池的外观、力学性能和电池转换效率进行检测。